蔡定平主任佈達
財團法人國家實驗研究院 (以下簡稱國研院) 儀器科技研究中心主任一職，從 2007 年 10 月徵求中心主任以來，歷經 5 個月的遴選，由國研院董事會於 2008 年 3 月 20 日決議敦聘蔡定平博士擔任儀科中心主任一職，並於 3 月 27 日舉行佈達會議。 蔡定平主任為台大物理系特聘教授，1990 年辛辛那堤大學物理學博士畢業，曾任國際光電工程學會 (SPIE) 台灣分會會長 (2004 及 2005 年) 以及副會長 (1996 及 1997 年)。目前為國際光電工程學會 (SPIE) 會士 (Fellow)、美國光學學會(OSA)會士(Fellow)、美國物理學會 (APS) 會士 (Fellow)、中華民國物理學會會士 (Fellow) 及國際電子電機工程學會 (IEEE) 資深會員 (Senior Member)。 [詳細內容] |
儀科中心成功開發原子層沉積系統
原子層沈積 (Atomic Layer Deposition, ALD) 技術乃利用製程氣體與材料表面進行化學吸附反應，相較於傳統薄膜製程，ALD 技術形成的薄膜，其成長過程被侷限在材料表面，使薄膜具高階梯覆蓋率及極佳的厚度均勻性。 儀科中心成功開發一套由國人自行設計研發的 ALD 系統，並經高介電材料製程驗證，可於低溫、粗略真空環境下，進行高階梯覆蓋率、高厚度均勻性及原子級薄膜厚度控制成長。在階梯覆蓋率與膜厚均勻性兩項特性上均已達國際水準，薄膜成長速率亦符合業界要求。[詳細內容] |
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