Ｘ光繞射原理與材料結構分析
- 中華民國八十二年六月初版
本書已於民國 85 年 9 月起轉由中國材料科學學會出版發行。 本網頁資料僅供參考。
作者
- 許樹恩
- 國立台灣大學材料所教授
- 吳泰伯
- 國立清華大學材料所教授
目錄
| 第壹部份 | 結晶學原理 | ||
| 第一章 | 基本結晶學 | 3 | |
| 第二章 | 晶體幾何及投影 | 59 | |
| 第三章 | 倒置座標 | 99 | |
| 第貳部份 | Ｘ光繞射原理 | ||
| 第四章 | Ｘ光的特性與偵測 | 121 | |
| 第五章 | 契合散射與繞射 | 147 | |
| 第六章 | 傅立葉轉換 | 171 | |
| 第七章 | 實際晶體繞射 | 187 | |
| 第八章 | Ｘ光儀原理及影響繞射因素 | 219 | |
| 第參部份 | Ｘ光繞射之基本應用 | ||
| 第九章 | 單晶繞射 | 243 | |
| 第十章 | 粉末繞射 | 271 | |
| 第十一章 | 定性與定量分析 | 301 | |
| 第十二章 | 晶體結構分析 | 323 | |
| 第肆部份 | 材料結構分析 | ||
| 第十三章 | 序化晶體之繞射 | 365 | |
| 第十四章 | 殘餘應力之分析 | 385 | |
| 第十五章 | 繞射峰形分析 | 407 | |
| 第十六章 | 優選織構測定 | 429 | |
| 第十七章 | 非晶質散射 | 459 | |
| 第十八章 | 小角度散射 | 483 | |
| 第十九章 | 平面缺陷及薄膜分析 | 501 | |
| 第二十章 | Ｘ光顯微分析技術 | 519 | |
| 附錄 | 1 | 重覆數 (因子) | 539 |
| 2 | 諸元素之質量吸收係數－常用六種靶標之Ｋ放射 | 541 | |
| 3 | 各元素特性輻射波長及吸收界波長 | 544 | |
| 4 | 極化因子及勞侖茲因子與繞射角度函數表 | 548 | |
| 5-1 | 原子散射因子 | 550 | |
| 5-1 | 原子散射因子異常散射修正 | 554 | |
| 6 | 元素之晶體結構 | 561 | |
| 7 | 結晶之結構符號 | 565 | |
| 索引 | 575 | ||
