光學元件精密製造與檢測－勘誤

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第 298 頁圖 9.27 圖說有誤，應為：
圖 9.27 (a) 國立中央大學薄膜技術中心自製之磁控濺鍍鍍膜機實體圖，(b) 磁控濺鍍架構示意圖⁽¹⁾。
第 299 頁圖 9.29 圖說有誤，應為：
圖 9.29 (a) 國立中央大學薄膜技術中心於 1992 年自製之精密光學監控離子濺鍍光學鍍膜機實體圖，(b) 離子濺鍍架構示意圖。
第 299 頁圖 9.30 圖說有誤，應為：
圖 9.30 以 IBSD 做出雷射鏡用 ring down cavity 損耗測量儀量出之損耗圖，77 ppm 含散射、吸收及穿透率，若不計穿透率 (67.5 ppm) 則總損耗只有 9.5 ppm⁽⁸⁾。
第 299 頁圖 9.31 圖說有誤，應為：
圖 9.31 原子力顯微鏡量出之 Ta₂O₅ 及 TiO₂ 之表面粗糙度，(a) Ta₂O₅ 薄膜之表面粗糙度 0.095 nm，(b) TiO₂ 薄膜之表面粗糙度 0.096 nm⁽⁹⁾。
第 517 頁圖 15.3 圖片有誤，應為：