光機電系統整合概論-目錄
| 第一章 | 系統概論 | 1 | ||
| 1.1 | 光機電技術的歷史回顧 | 1 | ||
| 1.2 | 光機電系統之技術範疇 | 5 | ||
| 1.3 | 光機電系統應用與產業 | 7 | ||
| 1.4 | 結論 | 11 | ||
| • | 參考文獻 | 12 | ||
| 第二章 | 光學 | 13 | ||
| 2.1 | 光學基本原理 | 13 | ||
| 2.1.1 幾何光學基本定律與光線追跡 | 13 | |||
| 2.1.2 光學像差理論 | 20 | |||
| 2.1.3 干涉 | 30 | |||
| 2.1.4 繞射 | 35 | |||
| 2.1.5 光的偏振 | 40 | |||
| 2.2 | 光學元件製作 | 41 | ||
| 2.2.1 傳統光學元件製造技術 | 41 | |||
| 2.2.2 塑膠射出成形 | 49 | |||
| 2.2.3 精密玻璃模造技術 | 54 | |||
| 2.2.4 超精密加工技術 | 59 | |||
| 2.2.5 微光學元件製作 | 64 | |||
| 2.3 | 光學基礎量測 | 71 | ||
| 2.3.1 光學元件規格 | 71 | |||
| 2.3.2 量測原理與基礎檢測 | 79 | |||
| 2.3.3 非球面鏡外形檢測 | 86 | |||
| • | 參考文獻 | 93 | ||
| 第三章 | 光電轉換與整合 | 97 | ||
| 3.1 | 光電轉換基本技術 | 97 | ||
| 3.1.1 雷射與光源 | 97 | |||
| 3.1.2 光電二極體檢測器之選取 | 109 | |||
| 3.1.3 光電前置放大訊號處理技術 (低頻與高頻) | 112 | |||
| 3.1.4 雷射光量自動控制 | 114 | |||
| 3.1.5 類比訊號與數位訊號品質評估 | 116 | |||
| 3.2 | 二維成像訊號處理 | 118 | ||
| 3.2.1 CCD 及 CMOS 感測器 | 118 | |||
| 3.2.2 A/D 轉換處理 | 125 | |||
| 3.2.3 時脈電路處理 | 131 | |||
| 3.2.4 數位訊號處理 | 142 | |||
| 3.3 | 介面處理技術 | 145 | ||
| 3.3.1 IEEE 1394 | 145 | |||
| 3.3.2 USB | 148 | |||
| 3.3.3 LabWindows/CVI | 151 | |||
| 3.3.4 LabView | 158 | |||
| 3.4 | 影像處理技術 | 169 | ||
| 3.4.1 影像格式轉換 | 170 | |||
| 3.4.2 影像增強 | 174 | |||
| 3.4.3 影像壓縮 | 175 | |||
| • | 參考文獻 | 180 | ||
| 第四章 | 機電整合 | 183 | ||
| 4.1 | 概述 | 183 | ||
| 4.2 | 壓電定位平台 | 184 | ||
| 4.2.1 壓電平台之機構 | 184 | |||
| 4.2.2 壓電驅動原理 | 192 | |||
| 4.2.3 壓電平台精密控制 | 204 | |||
| 4.3 | 數位攝影機的機電系統 | 211 | ||
| 4.3.1 自動對焦系統 | 213 | |||
| 4.3.2 音圈馬達 | 214 | |||
| 4.3.3 對焦致動器的控制 | 219 | |||
| 4.3.4 音圈馬達的控制 | 221 | |||
| 4.3.5 步進馬達的控制 | 223 | |||
| • | 參考文獻 | 227 | ||
| 第五章 | 光機整合 | 229 | ||
| 5.1 | 光機設計 | 229 | ||
| 5.1.1 設計程序 | 229 | |||
| 5.1.2 環境影響與環境試驗 | 233 | |||
| 5.1.3 常用材料 | 238 | |||
| 5.2 | 光學元件固緊技術實務 | 249 | ||
| 5.2.1 運動學設計 | 250 | |||
| 5.2.2 單片透鏡固緊設計 | 251 | |||
| 5.2.3 多片透鏡固緊設計 | 255 | |||
| 5.2.4 反射鏡與稜鏡固緊設計 | 257 | |||
| 5.2.5 結語 | 260 | |||
| 5.3 | 變焦機構設計 | 261 | ||
| 5.3.1 變焦鏡頭鏡組運動 | 261 | |||
| 5.3.2 變焦機構的合成 | 261 | |||
| 5.3.3 驅動機構 | 267 | |||
| 5.3.4 變焦機構的設計程序 | 268 | |||
| 5.4 | 雜光分析及抑制 | 270 | ||
| 5.4.1 前言 | 270 | |||
| 5.4.2 雜光影響 | 271 | |||
| 5.4.3 雜光來源 | 271 | |||
| 5.4.4 光線傳遞 | 275 | |||
| 5.4.5 雜光抑制及分析 | 277 | |||
| 5.4.6 擋光板及擋光舵板 | 278 | |||
| 5.4.7 結語 | 284 | |||
| 5.5 | 微光學元件封裝 | 284 | ||
| 5.5.1 發光二極體封裝趨勢與挑戰 | 284 | |||
| 5.5.2 雷射模組封裝趨勢與挑戰 | 287 | |||
| 5.5.3 主被動微光學元件之連接封裝 | 290 | |||
| 5.5.4 光通訊產品的未來封裝趨勢 | 291 | |||
| 5.6 | 光干涉術及其在實驗力學之應用 | 292 | ||
| 5.6.1 基礎觀念 | 292 | |||
| 5.6.2 邁克森干涉儀 | 295 | |||
| 5.6.3 疊紋干涉儀 | 297 | |||
| 5.6.4 光斑干涉儀 | 300 | |||
| 5.6.5 剪切干涉儀 | 303 | |||
| 5.6.6 相移術 | 308 | |||
| • | 參考文獻 | 314 | ||
| 第六章 | 系統整合設計及模擬 | 317 | ||
| 6.1 | 光學系統整合設計與模擬之要件 | 317 | ||
| 6.2 | 光源特性與光源模擬 | 321 | ||
| 6.3 | 後處理系統與模擬條件設定 | 323 | ||
| 6.4 | 系統特性分析與模擬優化 | 324 | ||
| 6.4.1 多組態最佳化 | 325 | |||
| 6.4.2 大域最佳化 | 326 | |||
| 6.5 | 公差與良率之模擬分析語 | 329 | ||
| 6.5.1 ISO 10110 公差 | 329 | |||
| 6.5.2 基本統計知識 | 330 | |||
| 6.5.3 系統效能之容忍度分析的一般考量 | 332 | |||
| 6.5.4 與優化結合的公差分析 | 337 | |||
| 6.6 | 測試模擬 | 337 | ||
| 6.7 | 整合系統模擬分析案例 | 338 | ||
| 6.7.1 成像儀的外觀與機構 | 339 | |||
| 6.7.2 成像儀鏡組的重建與確認 | 340 | |||
| 6.7.3 成像儀鏡組的容忍度分析 | 346 | |||
| 6.7.4 CCD 成像儀之雜光分析 | 347 | |||
| 6.7.5 實測與太空中觀察之結果 | 352 | |||
| 6.8 | 結論 | 352 | ||
| • | 參考文獻 | 353 | ||
| 第七章 | 系統組裝及檢測 | 355 | ||
| 7.1 | 系統組裝簡介 | 355 | ||
| 7.1.1 組裝環境基本需求 | 355 | |||
| 7.1.2 系統組裝調整基本要領 | 358 | |||
| 7.1.3 調校儀器原理與使用介紹 | 361 | |||
| 7.2 | 系統組裝調整 | 369 | ||
| 7.2.1 雷射讀寫系統 | 369 | |||
| 7.2.2 相機系統 | 381 | |||
| 7.3 | 系統品質量測 | 384 | ||
| 7.3.1 有效焦長與背焦長 | 384 | |||
| 7.3.2 場曲及焦深 | 389 | |||
| 7.3.3 調制轉換函數值 | 396 | |||
| 7.3.4 偏心 | 402 | |||
| 7.3.5 照度與亮度 | 408 | |||
| 7.3.6 光輻射度 | 411 | |||
| 7.3.7 色溫 | 417 | |||
| • | 參考文獻 | 421 | ||
| 第八章 | 實例介紹 | 423 | ||
| 8.1 | 投影機 | 423 | ||
| 8.1.1 前言 | 423 | |||
| 8.1.2 CRT 投影機 | 424 | |||
| 8.1.3 微鏡片陣列反射式投影機 (DLP 投影機) | 424 | |||
| 8.1.4 穿透式液晶投影機 | 427 | |||
| 8.1.5 反射式液晶投影機 | 430 | |||
| 8.1.6 結論 | 432 | |||
| 8.2 | 視覺取像系統 | 433 | ||
| 8.2.1 CCD 攝影機 | 433 | |||
| 8.2.2 攝影硬體裝置與幾何關係 | 443 | |||
| 8.3 | 雷射全像數位系統 | 450 | ||
| 8.3.1 數位全像術 | 451 | |||
| 8.3.2 電子光斑干涉術 | 452 | |||
| 8.3.3 時間及空間相移法 | 457 | |||
| 8.3.4 壓電材料傳感器 | 463 | |||
| 8.3.5 傅立葉分析 | 472 | |||
| 8.3.6 相位展開 | 477 | |||
| 8.3.7 雙折射檢測與相位鎖住技術 | 482 | |||
| 8.3.8 壓電致動微奈米定位平台 | 485 | |||
| 8.3.9 同調及非同調光源於干涉術之應用 | 491 | |||
| • | 參考文獻 | 501 | ||
| 第九章 | 遠景與未來發展 | 507 | ||
| 9.1 | 光電產業應用與發展 | 507 | ||
| 9.1.1 數位投影機 | 507 | |||
| 9.1.2 數位影像取像裝置 | 510 | |||
| 9.1.3 光碟機與光儲存媒體 | 512 | |||
| 9.2 | 微機電與奈米產業應用與發展 | 515 | ||
| 9.2.1 微機電系統與奈米科技綜觀 | 515 | |||
| 9.2.2 汽車安全氣囊感測器 | 517 | |||
| 9.2.3 噴墨列印頭 | 517 | |||
| 9.2.4 投影機數位微鏡元件 | 518 | |||
| 9.2.5 MEMS光開關 | 518 | |||
| 9.2.6 無線通信 RF MEMS | 519 | |||
| 9.2.7 奈米科技產業 | 520 | |||
| 9.3 | 檢測設備產業應用與發展 | 521 | ||
| 9.3.1 自動光學檢測設備 | 521 | |||
| 9.3.2 微/奈米檢測設備 | 523 | |||
| • | 參考文獻 | 525 | ||
| 中文名詞索引 | 527 | |||
| 英文名詞索引 | 533 | |||