真空技術與應用-目錄
| 序言 | v | |||
| 諮詢委員 | vii | |||
| 編審委員 | vii | |||
| 作者 | ix | |||
| 基 礎 篇 | 1 | |||
| 第一章 |    | 真空概論 | 3 | |
| 1.1 |    | 真空的定義 | 3 | |
| 1.2 |    | 真空壓力與真空度 | 3 | |
| 1.3 |    | 自然界的真空與標準大氣成份 | 5 | |
| 1.4 |    | 真空的區分 | 6 | |
| 第二章 |    | 氣體分子動力論 | 9 | |
| 2.1 |    | 熱運動速度 | 9 | |
| 2.2 |    | 平均自由徑 | 11 | |
| 2.3 |    | 理想氣體方程式 | 14 | |
| 2.4 |    | 氣體的傳輸現象 | 16 | |
| . |    | 參考文獻 | 17 | |
| 第三章 |    | 氣流與氣導 | 19 | |
| 3.1 |    | 氣流流域 | 19 | |
| 3.2 |    | 氣流通量、質量流和氣導 | 20 | |
| 3.3 |    | 連續流 | 21 | |
| 3.4 |    | 自由分子流 | 25 | |
| 3.5 |    | 過渡流 | 38 | |
| 3.6 |    | 跨越數個壓力區的模型 | 40 | |
| 3.7 |    | 流場區域的摘要 | 42 | |
| . |    | 參考文獻 | 44 | |
| 第四章 |    | 氣體的吸附和放出 | 45 | |
| 4.1 |    | 表面氣體吸附對真空技術的影響 | 45 | |
| 4.2 |    | 氣體分子在固體上的行為 | 46 | |
| 4.3 |    | 熱過程導致的氣體放出 | 54 | |
| 4.4 |    | 粒子激發導致的氣體放出 | 58 | |
| 4.5 |    | 影響氣體釋氣率的因素 | 63 | |
| . |    | 參考文獻 | 68 | |
| 第五章 |    | 電漿放電 | 71 | |
| 5.1 |    | 電漿系統特性與基礎原分子程序 | 71 | |
| 5.2 |    | 直流放電系統 | 79 | |
| 5.3 |    | 射頻放電系統 | 82 | |
| 5.4 |    | 微波放電系統 | 87 | |
| 5.5 |    | 電弧放電系統 | 94 | |
| . |    | 參考文獻 | 100 | |
| 第六章 |    | 真空幫浦 | 101 | |
| 6.1 |    | 真空幫浦之定義、分類與選用要素 | 101 | |
| 6.2 |    | 正排氣式幫浦 | 107 | |
| 6.3 |    | 動力式幫浦 | 116 | |
| 6.4 |    | 儲氣式幫浦 | 154 | |
| 6.5 |    | 真空幫浦性能檢測 | 178 | |
| . |    | 參考文獻 | 186 | |
| 第七章 |    | 真空度量 | 189 | |
| 7.1 |    | 真空度量分類與選用要素 | 189 | |
| 7.2 |    | 機械式真空計 | 192 | |
| 7.3 |    | 熱傳導真空計 | 211 | |
| 7.4 |    | 離子真空計 | 216 | |
| 7.5 |    | 黏滯性真空計 | 224 | |
| 7.6 |    | 微量氣體分壓度量裝置 | 228 | |
| 7.7 |    | 流量計 | 233 | |
| . |    | 參考文獻 | 241 | |
| 第八章 |    | 真空材料、元件與封合 | 243 | |
| 8.1 |    | 真空材料概論 | 244 | |
| 8.2 |    | 金屬與合金 | 248 | |
| 8.3 |    | 玻璃與陶瓷 | 251 | |
| 8.4 |    | 高分子材料 | 255 | |
| 8.5 |    | 真空封合 | 258 | |
| 8.6 |    | 真空閥門 | 263 | |
| 8.7 |    | 真空引入 | 267 | |
| 8.8 |    | 真空附件 | 273 | |
| . |    | 參考文獻 | 277 | |
| 第九章 |    | 真空系統設計與裝配 | 279 | |
| 9.1 |    | 真空系統之分類 | 279 | |
| 9.2 |    | 真空系統之組配 | 280 | |
| 9.3 |    | 真空系統抽氣概念與設計 | 283 | |
| 9.4 |    | 真空腔設計 | 290 | |
| 9.5 |    | 超高真空及極高真空系統設計 | 294 | |
| 9.6 |    | 真空系統設計常用符號及繪製法 | 299 | |
| . |    | 參考文獻 | 307 | |
| 第十章 |    | 真空測試與測漏 | 309 | |
| 10.1 |    | 真空測漏基本概念 | 309 | |
| 10.2 |    | 測漏方法與儀器 | 311 | |
| 10.3 |    | 氦氣測漏儀 | 313 | |
| 10.4 |    | 測漏實務 | 318 | |
| . |    | 參考文獻 | 322 | |
| 第十一章 |    | 真空標準與校正 | 323 | |
| 11.1 |    | 真空標準之理論基礎與規範 | 323 | |
| 11.2 |    | 真空計的校正方法 | 325 | |
| 11.3 |    | 轉移真空標準器 | 332 | |
| 11.4 |    | 真空計比較校正系統設計規範與規劃 | 333 | |
| 11.5 |    | 真空計的校正程序及不確定度評估 | 339 | |
| 11.6 |    | 其他真空校正技術 | 340 | |
| 第十二章 |    | 真空技術應用簡介 | 343 | |
| 12.1 |    | 真空技術之應用範圍 | 343 | |
| . |    | 參考文獻 | 345 | |
| 實 務 篇 | 347 | |||
| 第十三章 |    | 真空鍍膜系統 | 349 | |
| 13.1 |    | 熱電阻式蒸鍍系統 | 349 | |
| 13.2 |    | 電子束蒸鍍系統 | 359 | |
| 13.3 |    | 直流濺射鍍膜系統 | 369 | |
| 13.4 |    | 射頻濺射鍍膜系統 | 379 | |
| 13.5 |    | 離子濺射鍍膜系統 | 389 | |
| 13.6 |    | 雷射剝鍍系統 | 398 | |
| 13.7 |    | 分子束磊晶系統 | 409 | |
| 13.8 |    | 冷陰極電弧電漿沉積法 | 417 | |
| 13.9 |    | 化學氣相沉積設備 | 433 | |
| . |    | 參考文獻 | 448 | |
| 第十四章 |    | 真空冶金系統 | 451 | |
| 14.1 |    | 前言 | 451 | |
| 14.2 |    | 真空冶金學基礎 | 451 | |
| 14.3 |    | 金屬之真空精煉 | 454 | |
| 14.4 |    | 真空冶金工業製程 | 455 | |
| 14.5 |    | 真空冶金之應用 | 463 | |
| . |    | 參考文獻 | 464 | |
| 第十五章 |    | 真空熱處理系統 | 465 | |
| 15.1 |    | 真空熱處理爐的類型與構造 | 465 | |
| 15.2 |    | 真空熱處理之理論基礎 | 472 | |
| 15.3 |    | 真空熱處理爐的各項功能 | 475 | |
| 15.4 |    | 真空熱處理爐之問題點 | 481 | |
| 15.5 |    | 系統維護與保養 | 485 | |
| . |    | 參考文獻 | 488 | |
| 第十六章 |    | 電子束銲接系統 | 491 | |
| 16.1 |    | 發展過程與製程概述 | 491 | |
| 16.2 |    | 系統原理與架構 | 491 | |
| 16.3 |    | 電子束銲接的優缺點 | 493 | |
| 16.4 |    | 系統分類 | 494 | |
| 16.5 |    | 銲接程序與銲接參數選擇 | 497 | |
| 16.6 |    | 工業應用實例 | 502 | |
| . |    | 參考文獻 | 506 | |
| 第十七章 |    | 電漿蝕刻真空系統 | 507 | |
| 17.1 |    | 基本原理 | 507 | |
| 17.2 |    | 電漿蝕刻設備 | 510 | |
| 17.3 |    | 電漿蝕刻系統 | 513 | |
| 17.4 |    | 基本操作示範 | 515 | |
| . |    | 參考文獻 | 516 | |
| 第十八章 |    | 離子氮化系統 | 517 | |
| 18.1 |    | 系統工作原理 | 517 | |
| 18.2 |    | 系統硬體結構 | 519 | |
| 18.3 |    | 系統操作實務 | 523 | |
| 18.4 |    | 系統功能與應用 | 525 | |
| . |    | 參考文獻 | 526 | |
| 第十九章 |    | 真空冷凍乾燥系統 | 527 | |
| 19.1 |    | 冷凍的意義 | 527 | |
| 19.2 |    | 乾燥的意義 | 528 | |
| 19.3 |    | 真空乾燥原理 | 529 | |
| 19.4 |    | 真空乾燥方法與使用的設備 | 531 | |
| 19.5 |    | 真空冷凍乾燥技術應用之領域 | 536 | |
| 19.6 |    | 真空冷凍乾燥技術應用實例 | 537 | |
| . |    | 參考文獻 | 542 | |
| 第二十章 |    | 加速器真空系統 | 543 | |
| 20.1 |    | 加速器真空系統設計要點 | 543 | |
| 20.2 |    | 小型加速器 (范氏加速器) 真空系統 | 546 | |
| 20.3 |    | 大型加速器 (電子同步加速器與儲存環真空系統) | 549 | |
| . |    | 參考文獻 | 560 | |
| 第二十一章 |    | 核子工程與真空系統 | 561 | |
| 21.1 |    | 核融合工程與真空系統 | 561 | |
| 21.2 |    | 輻射線應用技術與真空系統 | 562 | |
| . |    | 參考文獻 | 566 | |
| 第二十二章 |    | 表面分析儀 | 567 | |
| 22.1 |    | 前言 | 567 | |
| 22.2 |    | 表面分析與超高真空 | 567 | |
| 22.3 |    | 表面分析儀 | 568 | |
| 22.4 |    | 真空表面分析系統 | 583 | |
| 22.5 |    | 結語 | 594 | |
| . |    | 參考文獻 | 594 | |
| 第二十三章 |    | 太空環境模擬系統 | 597 | |
| 23.1 |    | 大型熱真空環境模擬系統 | 597 | |
| 23.2 |    | 太空磁暴及輻射環境模擬系統 | 604 | |
| . |    | 參考文獻 | 612 | |
| 第二十四章 |    | 台灣產業普遍真空處理系統 | 615 | |
| 24.1 |    | 半導體工業 | 615 | |
| 24.2 |    | 光電工業 | 623 | |
| 24.3 |    | 材料工業 | 644 | |
| . |    | 參考文獻 | 654 | |
| 中文索引 | 659 | |||
| 英文索引 | 671 | |||