負責人  殷宏林先生 03-5779911分機605

代理人  鄭紹章先生 03-5779911分機406

儀器英文名稱    (Electron Beam Lithography System)

儀器廠牌     Raith

儀器型號    Raith50

    電子束微影為製作次微米至奈米級尺度結構最重要的技術之一，其基本原理為利用高電壓加速之電子對特殊之阻劑(resist)進行直寫，藉由電磁線圈來控制電子行進路線，可製作出各種包含週期性及非週期性等圖案。建置在本中心之Raith50電子束微影系統，其硬體基本規格如下

1、PMMA電子束微影技術

製程應用：各種奈米圖案及遮罩直寫

利用電子束微影技術在PMMA所製作出的各種圖案

 服務方式：委託研究計畫

2、SU-8電子束微影技術

製程應用：製作奈米結構或模仁

                      (a)                                                         (b)

SU-8奈米柱陣列 (a)直徑200nm，週期1000nm (b) 直徑200nm，週期750nm

 服務方式：委託研究計畫

製程應用：奈米級金屬結構製作

                      (a)                                              (b)

(a)雙層倒T型結構  (b) 60nm Pt金屬線 

服務方式：委託研究計畫

4、灰階製程技術

製程應用：各種微(奈)米光學元件製作

                         (a)                                     (b)

利用灰階製程所製作之元件(a)Fresnel Lens (b) Hologram 

服務方式：委託研究計畫

5、奈米級蝕刻製程技術（結合ICP技術）

製程應用：

服務方式：委託研究計畫

委託製作收費標準與規定  目前本機台尚未開放委託製作服務