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周曉宇 分機：320 E-Mail：tony@pidc.gov.tw 游智勝 分機：406 E-Mail：ycs@pidc.gov.tw 翁俊仁 分機：478 E-Mail：cjweng@pidc.gov.tw 傅同龍 分機：606 E-Mail：dragonfu@pidc.gov.tw
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儀器中文名稱 準分子雷射加工機 |
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儀器英文名稱 Excimer Laser Micromaching System |
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儀器英文簡稱 Excimer Laser |
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儀器廠牌 Exitech |
| 儀器型號 7000 |
| 採購日期 86/07/31 |
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儀器簡介 精密儀器發展中心為提升國內微系統技術，以既有的光、機、電技術整合經驗為基礎，自民國八十六年引進準分子雷射加工機開始，發展以類 LIGA 製程為主體的微系統技術，目前已建置完成類 LIGA 製程實驗室，成功開發準分子雷射微加工、厚膜光阻微影、微電鑄及微熱壓成型完整製程，並已具備微元件機械與光學特性檢測核心技術。 本中心利用類 LIGA 製程技術之高深寬比與高精度特性，進行微機械及微光學之相關研究，並開發微光譜儀與微干涉儀等微型儀器。在微機械方面已成功製造微米級的微齒輪、微渦輪、微流道、微噴孔、深寬比 25 的微結構及特殊曲面微結構。其中微齒輪可應用於鐘錶傳動；微曲面結構則可用以製作形狀複雜且精密的微小模具；微噴孔加工已成為噴墨印表機噴頭製造的主流；微渦輪與微流道則為微混合器與微流量控制器不可或缺的元件。在微光學應用方面，繞射式微透鏡陣列與數位式全像片、柱狀透鏡等設計軟體與製作技術亦已發展成熟。繞射式光學元件則是 DVD 讀取頭、雷射二極體陣列、光通訊、機器視覺及液晶投影系統的關鍵零件，本中心此時在國內落實此新興高科技關鍵技術的開發，對國內光電相關產業有極大的助益。 |
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儀器主要規格 雷射 工作氣體：KrF 波長：248 nm 最大脈衝能量：700mJ 平均功率：65 W 最大重複率：100Hz 加工移動平台 X-Y軸行程200 mm× 200 mm，重複精度1µm Z軸行程5 mm，重複精度0.1 µm 手動旋轉平台 ± 45°，精度6 arc-second 投影（Macro）加工部分系統 光束傳輸系統：光束大小10 mm× 10 mm，均勻度 ± 5% RMS 光罩掃瞄平台：行程250 mm× 250 mm 投影光學鏡頭：4X/0.1NA/4mm field，10X/0.2NA/2mm field 聚焦（Micro）加工部分系統 聚焦光學鏡頭： 15X/0.28NA/0.4mm field 25X/0.4NA/0.25mm field 36X/0.5NA/0.15mm field
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中心技術能量與產出 微機械元件： 微米級的微齒輪、微渦輪、微流道、微噴孔、深寬比 25 的微結構及特殊曲面微結構。 微光學元件: 繞射式微透鏡陣列與數位式全像片、柱狀透鏡等 |
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收費標準與規定
前30分鐘3000—4000元 |