多靶平行濺鍍系統
Multi-Target Co-Sputtering System
簡介
多靶式共濺鍍系統
漏氣微型光譜即時偵測器
本中心整合真空鍍膜、真空檢挍與系統自動儀控技術能量，發展多靶平行濺鍍系統，提供高品質金屬和功能性陶瓷薄膜沉積，如鈦酸鍶鋇介電薄膜、透明導電薄膜與紫外光抗反射膜等，本系統具備高能離子源，可應用為表面改質和離子輔助濺鍍，可有效提高薄膜光電性質。配合真空技術組研發之專利微型光譜偵測器，在電漿製程中可即時監測漏氣發生，有效提升製程良率與產業競爭力。
技術能量
- 高品質金屬與功能性陶瓷薄膜沉積
- 表面改質與離子輔助濺鍍製程
- 高真空濺鍍系統組裝
- 電漿製程漏氣微型光譜即時偵測器專利與技術移轉
規格
- 4" 濺鍍槍
- 1100 W 射頻濺鍍源
- 高能離子源
- 800 °C 基材加熱旋轉裝置
應用領域
- 半導體與光電產業等相關鍍膜產業
- 真空系統與鍍膜製程設備產業
