精密光學薄膜設備與製程開發
新型透明導電薄膜開發
濺鍍系統，右下方插圖顯示離子輔助濺鍍製程
開發目的
透明導電薄膜 (TCO) 具有良好導電性及透光性，廣泛應用於液晶顯示器、觸控面板、電磁波防護與太陽能電池等。TCO 薄膜在應用上常製鍍於玻璃基板，但玻璃易碎、且大尺寸玻璃不易製作，本中心應用新式低溫鍍膜製程技術成功開發高透光性與高導電性之 TCO 薄膜鍍製於塑膠基板，可製作不同尺寸、曲面形狀的軟性光電元件。
規格與特徵
本製程技術主要以多靶式共濺鍍系統開發包括 ITO、IZO、AZO、GZO 等具有良好導電性及透光性新型透明導電薄膜材料，本技術應用高能電漿以低溫製程於塑膠基板上，獲得高光電品質薄膜以製作不同尺寸、曲面形狀的軟性光電元件，本製程並備有高能離子源可應用於表面改質與離子輔助濺鍍，有效提高薄膜光電性質。
- 透光率 > 85% (@400–700 nm)
- 片電阻 40 – 300 Ω/☐
- 表面粗糙度 (rms) < 1.4 nm
應用
- 平面顯示器用透明導電薄膜基板
- 軟性導電塑膠基板
- 電磁波遮蔽板
- 抗反射導電薄膜基板
IZO 樣本的 AFM 形貌影像與對應的電流影像 (CAFM)
X'TEM images shows the microcrystalline IZO films on SiO2-coated PET substrate.
Current density – applied voltage – luminance characteristics of the flexible OLED
計畫聯絡人
潘漢昌
E-mail: charlespan@itrc.org.tw
